1050型射频等离子处理仪

1050型射频等离子处理仪 
 
    原理：通过等离子体与固体表面的相互作用，*固体表面的**污染物，固体如：金属、陶瓷、玻璃、硅片等等，同时可以用等离子处理系统对样品表面进行处理，改善样品表面的特性，如亲水/疏水特性，表面自由能，以及表面的吸附/粘附特性等等。
    1050型射频等离子处理仪（Plasma Asher）的等离子处理单元由固态射频发生器结合调谐电路组成。同时两种处理气体流量针阀监控，全部或部分通气口控制。
  
应用领域：
生物芯片领域
医用材料、光学材料研究
电子半导体领域
高分子材料研究
电化学、高端零部件处理
**材料的灰化、刻蚀
仪器性能：
自动调频高频发生器
内置旋转真空泵
此系统通常使用氧及氩的混合气体，氧去除**物质（碳氢化合物），氩对样品表面进行刻蚀
低温等离子灰化、刻蚀、清洗 (0-150 watts RF) 
真空监测. 
双重气流针阀控制 
精确时间定时 
微处理器程序设置
LCD状态数字显示
腔室为圆柱形，样品装载为抽屉式抽拉系统，样本操作方便 
聚碳酸脂*防护  
技术参数：
 
电镜**样本的刻蚀尺寸 450mm(W)x350mm(D)x300mm(H) 
工作腔室 派热克斯玻璃 150mm(L)x100mm(Dia.) 
(硼硅酸盐玻璃为标准配置) 
重量 25Kg 
等离子体输出 较大150w，13.56 MHz 。 
等离子体输出 较大150w，13.56 MHz 。 
真空度 >ATM to 1 x 10-5mbar；通常 0.5 mbar to 1.0 mbar. 
时间控制 较长可设置99小时59分钟 
双重气流控制 双重针阀气流控制，可选1种或2种气体（校准 5-100cm3/min air at A.T.P) 
电源 230 V， 50Hz (3 amp Max) 

 
产品信息：
 
货号 产品名称 规格 
93000 EMS 1050 Plasma Asher 台 
91005-F Rotary Vacuum Pump (Fomblin) 个